Китайская полупроводниковая отрасль находит альтернативные пути для преодоления западных экспортных ограничений, модернизируя старые литографические сканеры ASML с глубоким ультрафиолетовым излучением (DUV). Это позволяет получать более высокую отдачу от легально используемого оборудования, что подчеркивает недостатки в регулировании, направленном на замедление технологического прогресса в Китае. В условиях запрета на продажу новейших литографов, китайские заводы адаптируют устаревшие системы, такие как ASML Twinscan NXT:1980i, для производства 7-нм чипов, подходящих для AI. За счет улучшения платформ и оптики на вторичном рынке повысилась точность и производительность без нарушения экспортных норм. Аналитики отмечают, что китайские технологии показывают значительный прогресс, несмотря на ограничения. Тем не менее, модернизация не может полностью компенсировать отсутствие доступа к передовым решениям от TSMC и Samsung, что делает производство менее эффективным.
Заголовки
