Японская корпорация Canon начала сотрудничество с Intel, отправив осенью прошлого года установку для экспериментов с производством чипов методом нанопечати. Эта технология, по замыслу разработчиков, позволит снизить затраты на оборудование, необходимое для создания 5-нм чипов, а также существенно сэкономить электроэнергию. Недавно компания DNP представила материал для производства чипов с размером 1,4 нм.
Как сообщает Nikkei Asian Review, DNP разработала специализированные матрицы, которые позволяют наносить рисунок на кремниевые пластины, что является ключевым этапом в создании полупроводников. В 2027 году компания планирует запустить массовое производство этих материалов, что в сочетании с оборудованием Canon даст возможность создавать 1,4-нм чипы.
Энергозатраты на производство таких чипов могут быть снижены на 90 % по сравнению с традиционной литографией, использующей мощные лазеры. Стоимость установки для нанопечати составляет около $6,4 млн, что значительно дешевле, чем у современных сканеров ASML. Несмотря на интерес к технологии со стороны таких компаний, как Samsung, TSMC и Micron, большинство из них пока не готовы к масштабным изменениям. Canon и Nikon, некогда лидеры в литографии, уступили позиции ASML, контролирующей 90 % рынка. Fujifilm также намерена заняться производством материалов для нанопечати, но изменить рынок будет непросто.
