В мире технологий компания ASML занимает важное место, хотя многие о ней не слышали. Литографические машины ASML являются ключевыми в производстве современных чипов. Однако на горизонте появилась новая американская компания, которая намерена оспорить их лидерство. Стартап Substrate разрабатывает уникальные литографические машины, использующие коротковолновое рентгеновское излучение, созданное с помощью ускорителей частиц, вместо привычного экстремального ультрафиолетового излучения. Substrate уже привлек 100 миллионов долларов от таких инвесторов, как Founders Fund, и достиг оценки в 1 миллиард долларов. По словам представителей стартапа, их технология позволит значительно снизить затраты на литографию по сравнению с оборудованием ASML EUV. Более того, использование рентгеновского излучения с меньшей длиной волны, чем 13,5 нм EUV, обеспечит более высокое качество печати чипов. Эксперты отмечают, что достижения Substrate могут произвести революцию в данной области.
Заголовки
